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省管优秀专家——刘玉岭

时间:2012-01-10 01:07来源:未知
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    刘玉岭,男,全国第九届政协委员,国家有突出贡献的中青年专家,国务院“政府特殊津贴”享受者,全国高校先进工作者,河北省十大发明家,天津市劳动模范,河北工业大学微电子研究所所长、教授、博士生导师,中国洗净工程协会副理事长,天津市民进副主任,河北省有突出贡献拔尖人才,河北省学位委员会评审专家,台湾微帮高科技有限公司高级顾问,南开大学兼职教授。

 

    1966年毕业于南开大学。

 

    1968年-1974年在河北轻化工技术研究所担任技术员。

 

    1974年-1990年在河北工业大学微电子所担任所长、教授。

 

    1990年-今年在河北工业大学微电子所担任博导、教授、所长。

 

    1979年,他主持研制的“IC制备中金属杂质与微缺陷自吸除”获天津优秀科研成果奖和全国半导体技术优秀论文奖,同时发明的“控制可动离子钝化技术”与“FNO-MOS型抛光液”,获国家发明四等奖,并在我国首次确定了“热应力滑移位错产生机理与控制技术”,使之由107/cm2降至103/cm2以下,确定了器件完美工艺技术。

 

    1985年,他主持的“外延材料与器件性能关系”研究,优化了材料参数,提高了器件优品率,获河北省科技进步二等奖。

 

    1987年,他主持研制的“硅外延BC技术”获国家发明二等奖,被解放军901厂、解放军771厂等多家企业规模应用。并且他的“反向补偿优化法”成为一种发明创造技法被编入高校教材“发明创造工程学”。

 

    1997年,他主持的“FA/O活性剂在微电子工业中的应用”被列为国家科技成果重点推广计划和国家级新产品。另外他发明了具有13个螯合环无钠水溶性新型螯合剂,代替国际上多年使用的螯合环EDTA二钠盐,它对几十种离子有很强的螯合作用,有效地解决了钠离子污染。这两项“提高固体表面光洁度”的成果获国家发明一等奖。

    

    在我国率先针对微电子制备技术中影响集成度、成品率、可靠性的衬底表面状态、二次晶体缺陷、金属杂质污染、表面粒子吸附、外延层质量、ULSI多层布线全局平面化等关键技术、理论及相关材料进行了综合创新性研究。

      

    他承担的多项国家、省部级重大项目,主持发明的20多项关键技术及相关材料,居国内领先地位,多项参数已达到甚至超过国际SEMI标准,部分已跨入国际领先行列,其科研成果曾获国家发明5项,省部级科技进步奖18项,科研成果转化生产力达90%以上,拥有知识产权的技术及产品已在冀、京、津、沪、苏、浙等十多个省市的微电子引进生产线上取代了进口,推广面积占全国的60%以上,并已出口台湾,社会经济效益十分显著。

      

    常年工作在产学研第一线,并对大型微电子企业及科研单位的技术人员进行新技术培训一千余人次,促进了我国微电子技术的不断发展,德国Bayer公司正积极与他进行技术合作。本人出版专著三部,发表论文百余篇,培养硕士、博士30余名

 

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分享到: (责任编辑:王翠玲)
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